特許

J-GLOBAL ID：200903034100139976

液体中に溶解されたガスの濃度を調節するための方法およびシステム

発明者： クリステンソン,クルト,ケー.
出願人/特許権者： エフエスアイ インターナショナル インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 萼 経夫 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-580237
公開番号（公開出願番号）：特表2003-517718
出願日： 1999年10月29日
公開日（公表日）： 2003年05月27日
要約：

【要約】本発明は、液体中に溶解されたガスの正確な濃度を確立しそして維持するための方法およびシステム(10)に関する。さらに特別には、本発明は、液体に溶解されるべき所望濃度のガスと平衡状態にある所望のガスの十分な濃度からなるガスブレンド(18)、即ち「調整されたガス」を利用することによって、液体中に溶解されたガスの正確な濃度を確立しおよび維持して、所望の濃度のガスからなる液体混合物を製造する方法およびシステムに関する。この手段で、本発明の方法およびシステムは厳密仕様を伴う適用において使用するのに適した正確な量の溶解したガスを含む液体混合物を製造でき、およびさらに使用する場所に溶解されたガスを実質的に損失しないように製造された液体混合物を供給することができる

請求項（抜粋）：

溶解されたガスを含む液体混合物により基板を処理する方法であって、(a) 液体および一定の濃度の溶解されたガスよりなる霧状化された液体混合物を形成するため調整されたガスブレンドの存在下で液体を霧状化する段階、および(b) 前記霧状化された液体混合物を前記基板と接触させる段階よりなる方法。

IPC (9件)：

H01L 21/308 ,  B01F 3/04 ,  B01F 5/18 ,  B01F 15/04 ,  B01J 4/00 103 ,  B01J 19/00 ,  C23F 1/24 ,  H01L 21/304 643 ,  H01L 21/306

FI (10件)：

H01L 21/308 E ,  B01F 3/04 Z ,  B01F 5/18 ,  B01F 15/04 A ,  B01J 4/00 103 ,  B01J 19/00 K ,  C23F 1/24 ,  H01L 21/304 643 Z ,  H01L 21/306 R ,  H01L 21/306 D

Fターム (40件)：

4G035AB04 ,  4G035AC37 ,  4G035AE01 ,  4G037BA03 ,  4G037BB06 ,  4G068AA02 ,  4G068AA06 ,  4G068AB15 ,  4G068AC05 ,  4G068AC07 ,  4G068AD16 ,  4G068AD39 ,  4G068AD40 ,  4G068AF36 ,  4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075AA62 ,  4G075BC06 ,  4G075BD16 ,  4G075BD17 ,  4G075BD26 ,  4G075BD30 ,  4G075CA57 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4K057DN01 ,  4K057WA01 ,  4K057WB04 ,  4K057WB06 ,  4K057WE07 ,  4K057WE30 ,  4K057WG08 ,  4K057WM06 ,  4K057WM13 ,  4K057WM14 ,  5F043AA31 ,  5F043DD13 ,  5F043EE23 ,  5F043EE29