特許
J-GLOBAL ID：200903034105491775
露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-291838
公開番号（公開出願番号）：特開平7-142362
出願日： 1993年11月22日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 走査方向に複数個のチップパターンが分割して形成されたレチクルのパターンをステップ・アンド・スキャン方式でウエハ上の各ショット領域に露光する際に、スループットを向上する。【構成】 ウエハW上のショット領域SA1〜SA68に、走査方向に3個取りのレチクルのパターンをそれぞれスキャン露光方式で露光する。ウエハWの外周部のショット領域SA1は1個のチップパターンのみが露光できる欠けたショット領域であるため、レチクルを1個のチップパターン分だけスリット状の照明領域に対して走査するのと同期して、ウエハWを軌跡T1と逆方向にフルフィールドの1/3分だけ走査して露光する。
請求項（抜粋）：
所定形状の照明領域を照明する照明光学系と、前記照明領域に対して所定の走査方向に転写用のパターンが形成されたマスクを走査するマスクステージと、感光性の基板を保持して該基板を2次元的に位置決めすると共に該基板を前記所定の走査方向に対応する方向に走査する基板ステージとを用い、該基板ステージのステッピング動作により前記マスクと前記基板上の複数のショット領域内の露光対象とするショット領域とを走査露光の加速開始位置まで位置合わせした後、前記基板ステージ及び前記マスクステージを介して前記照明領域に対して前記走査方向に前記マスク及び前記基板を同期して走査することにより、前記マスクのパターンを逐次前記基板上の各ショット領域に転写露光する露光方法において、前記マスク上に複数の回路パターンが前記走査方向に分割されて形成されている場合で、且つ前記基板上のショット領域内で前記マスクの複数の回路パターン中の一部の回路パターンのみが露光できる一部が欠けたショット領域に前記マスクのパターンを露光する場合に、前記マスクと前記基板上の一部が欠けたショット領域とを加速開始位置に位置合わせし、前記マスクステージを介して前記照明領域に対して前記走査方向に前記マスクを前記一部が欠けたショット領域に露光される回路パターンの長さ分だけ移動するのと同期して、前記基板ステージを介して前記基板を前記一部が欠けたショット領域上に露光される回路パターンに対応する長さ分だけ走査した後、前記マスクステージを介して前記マスクを次の加速開始位置に設定すると共に、前記基板ステージを介して前記基板を次に露光するショット領域の加速開始位置に設定することを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 D
, H01L 21/30 516 B
, H01L 21/30 527
