特許

J-GLOBAL ID：200903034117586860

基板処理装置

発明者： 有岡 昌宏 ,  吉岡 斉
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-077735
公開番号（公開出願番号）：特開平10-275844
出願日： 1997年03月28日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：

【要約】【課題】 基板の投入規制を行うことなく搬送の停滞を解消し、スループットの低下を防止することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 薬液槽CB1、水洗槽WB1、水洗槽FR、乾燥部SDの順に基板を搬送するような処理パターンを設定し、当該処理パターンに従って基板搬送ロボットTRが基板を搬送する。水洗槽FRにおける処理時間が長い場合には、水洗槽WB1における処理が終了した基板を水洗槽FRに搬入できないため、搬送の停滞が生じる。この場合は、処理パターンを変更し、水洗槽WB1における処理が終了した基板を水洗槽WB2に搬入し、その後さらに水洗槽FRに搬送するようにする。その結果、水洗槽WB2にバッファの機能が付与されることとなり、基板の投入規制を行うことなく搬送の停滞を解消し、スループットの低下を防止することができる。

請求項（抜粋）：

基板に対して浸漬処理を行う基板処理装置において、(a) 水洗槽を含む複数の処理槽と、(b) 前記複数の処理槽間で基板の搬送を行う基板搬送手段と、(c) 予め定められた処理パターンに従って、前記基板を搬送するように前記基板搬送手段を制御する搬送制御手段と、(d) 前記搬送に停滞が生じた場合には、前記停滞が生じる前は実質的に使用されていない水洗槽を使用するように前記処理パターンを変更するパターン変更手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/306

FI (3件)：

H01L 21/68 A ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/306 K