特許

J-GLOBAL ID：200903034119667671

ビ-ムプロフアイルモニタを有するイオン注入装置

発明者： 立道 潤一 ,  糠山 正明 ,  安東 靖典
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 成田 擴其
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-303871
公開番号（公開出願番号）：特開平5-121033
出願日： 1991年10月24日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：

【要約】【目的】 ビ-ムプロファイルモニタ収納部にガスが溜るのを防止し、真空室を大気に曝さずにビ-ムプロファイルを測定すること。【構成】 イオン源1からのイオンビ-ムは基板7に注入される。ビ-ムプロファイル測定に際し、バルブ35を開き、プロファイルモニタ13を収納するチャンバ31は、ポンプ36によって真空にされる。バルブ35を閉じ、ゲ-トバルブ32を開き、モニタ13をビ-ム輸送路に移動配置し、ビ-ムプロファイルを測定する。イオン注入時、チャンバ31はゲ-トバルブ32によってイオン源、処理室5と遮断されているから、ガスが溜らない。

請求項（抜粋）：

モニタ収納チャンバと、このチャンバとイオンビ-ムが通る真空室の側壁部との間に設けられたゲ-トバルブと、前記モニタ収納チャンバ内に収納されると共に、前記イオンビ-ムが通る真空室内に移動可能のビ-ムプロファイルモニタとを備えたことを特徴とするビ-ムプロファイルモニタを有するイオン注入装置。

IPC (3件)：

H01J 37/317 ,  H01J 37/04 ,  H01L 21/265

FI (2件)：

H01L 21/265 D ,  H01L 21/265 T