特許

J-GLOBAL ID：200903034132952989

干渉計及び投影光学系の製造方法

発明者： 小林 美佐子
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 古谷 史旺
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-304281
公開番号（公開出願番号）：特開2005-077116
出願日： 2003年08月28日
公開日（公表日）： 2005年03月24日
要約：

【課題】 高性能でありながらも構成がシンプルに抑えられた干渉計を提供することを目的とする。【解決手段】 この干渉計は、光源から射出した照明光束の波面を変換する補償光学系(15)と、被検面、又はその共役面の縮小像を形成する結像光学系(13)と、前記縮小像が形成される面、又はその共役面の輝度分布を検出する検出手段(21)と、前記補償光学系から射出する前記照明光束を、前記結像光学系の像側からその結像光学系を介して前記被検面に対し投光する導光手段(16)とを備える。前記補償光学系は、前記結像光学系の物体側のテレセントリック性を補償する方向に前記波面を変換する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

光源から射出した照明光束の波面を変換する補償光学系と、 被検面、又はその共役面の縮小像を形成する結像光学系と、 前記縮小像が形成される面、又はその共役面の輝度分布を検出する検出手段と、 前記補償光学系から射出する前記照明光束を、前記結像光学系の像側からその結像光学系を介して前記被検面に対し投光する導光手段とを備え、 前記補償光学系は、 前記結像光学系の物体側のテレセントリック性を補償する方向に前記波面を変換する ことを特徴とする干渉計。

IPC (3件)：

G01B9/02 ,  G02B13/00 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G01B9/02 ,  G02B13/00 ,  H01L21/30 516A

Fターム (24件)：

2F064AA09 ,  2F064AA15 ,  2F064BB03 ,  2F064CC01 ,  2F064DD08 ,  2F064DD09 ,  2F064EE05 ,  2F064FF01 ,  2F064GG20 ,  2F064GG22 ,  2F064HH03 ,  2F064HH08 ,  2H087KA12 ,  2H087LA25 ,  2H087LA27 ,  2H087NA01 ,  2H087PA03 ,  2H087PA07 ,  2H087PA17 ,  2H087PB03 ,  2H087PB07 ,  2H087RA37 ,  5F046DA12 ,  5F046DB05