特許
J-GLOBAL ID：200903034143531462
清浄装置及び反射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
渡邉 一平 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-249569
公開番号（公開出願番号）：特開2001-081735
出願日： 1999年09月03日
公開日（公表日）： 2001年03月27日
要約：
【要約】【課題】 人為的な清浄作業に頼ることなく、再帰反射要素の表面(反射面)に付着した汚れを除去可能で、広入射角特性等の反射性能の低下を効果的に防止できる反射材用に適した清浄装置を提供する。【解決手段】 基材15と、その基材15表面に配置された再帰反射要素16とを有してなる反射材7とともに配置され、前記再帰反射要素16の表面を清浄する装置である。当該装置は、前記再帰反射要素16の表面に沿って可動自在に配置され、少なくとも駆動力を与えられて動いた時に、前記再帰反射要素16と摩擦接触し、その摩擦接触により前記再帰反射要素16の表面を清浄する清浄部材1を備えてなる。
請求項（抜粋）：
基材と、その基材表面に配置された再帰反射要素とを有してなる反射材とともに配置され、前記再帰反射要素の表面を清浄する装置であって、前記再帰反射要素の表面に沿って可動自在に配置され、少なくとも駆動力を与えられて動いた時に、前記再帰反射要素と摩擦接触し、その摩擦接触により前記再帰反射要素の表面を清浄する清浄部材を備えてなることを特徴とする清浄装置。
Fターム (19件)：
2D064AA12
, 2D064AA22
, 2D064BA01
, 2D064BA08
, 2D064BA14
, 2D064CA02
, 2D064CA03
, 2D064CA04
, 2D064CA05
, 2D064DA05
, 2D064DA06
, 2D064DA08
, 2D064EB22
, 2D064EB25
, 2D064EB26
, 2D064EB34
, 2D064GA06
, 2D064GA08
, 2D064HA02
