特許

J-GLOBAL ID：200903034155600842

縦型CVD・拡散装置

発明者： 石津 秀雄
出願人/特許権者： 国際電気株式会社
代理人 (1件)： 石戸 元
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-207429
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029434
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】 使用するチャンバ間の圧力差をなくし、各チャンバ内の雰囲気を乱さないようにしてパーティクルの巻き上げ等を抑止する。【構成】 カセットチャンバ5とウェーハ移載用チャンバ7との間,該ウェーハ移載用チャンバ7とロードロックチャンバ8との間及び該ロードロックチャンバ8と反応チャンバ10との間にそれぞれ同圧バルブ11A〜11Cを接続してなる。

請求項（抜粋）：

カセットチャンバ(5),ウェーハ移載用チャンバ(7),ロードロックチャンバ(8)及び反応チャンバ(10)内を減圧し、カセットチャンバ(5)内のカセット(6)に収納されているウェーハをゲートバルブ(9A)を通してウェーハ移載用チャンバ(7)内に移載し、このウェーハをゲートバルブ(9B)を通してロードロックチャンバ(8)に移し、更にゲートバルブ(9C)を通して反応チャンバ(10)内に挿入して膜生成を行う縦型CVD・拡散装置において、前記カセットチャンバ(5)とウェーハ移載用チャンバ(7)との間,該ウェーハ移載用チャンバ(7)とロードロックチャンバ(8)との間及び該ロードロックチャンバ(8)と反応チャンバ(10)との間にそれぞれ同圧バルブ(11A〜11C)を接続してなる縦型CVD・拡散装置。

IPC (5件)：

H01L 21/68 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/285