特許
J-GLOBAL ID：200903034170951180
投影露光装置及び投影露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
國分 孝悦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-092615
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283402
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 通常の投影露光装置の光学系を用いて、深い焦点深度を得られる投影露光装置及び投影露光方法を提供する。【構成】 半導体基板9に転写されるべき微細パターン3と微細パターン3がその表面に形成された石英ガラス2とから成るレチクル4の上方に位置し、微細パターン3に対して光束を照射する照明光源1と、レチクル4の下方に位置し、微細パターン3からの回折光5a,5bが入射し、回折光5a,5bを半導体基板9表面に投影し、半導体基板9表面に微細パターン3を転写する投影レンズ8と、レチクル4と投影レンズ8との間に、微細パターン3から投影レンズ8への回折光5を遮る遮光部材6と、を有している。遮光部材6は、微細パターン3から発生する回折光5,5a,5bのうち、レチクル4面に対して垂直な方向に生じる0次回折光5を遮蔽する位置に配置されている。
請求項（抜粋）：
半導体基板に転写されるべき微細パターンと該微細パターンがその表面に形成された石英ガラスとから成るレチクルの上方に位置し、前記微細パターンに対して光束を照射する照明光源と、前記レチクルの下方に位置し、前記微細パターンからの回折光が入射し、該回折光を前記半導体基板表面に投影し、該半導体基板表面に前記微細パターンを転写する投影レンズと、を有する投影露光装置において、前記レチクルと前記投影レンズとの間に、前記微細パターンから前記投影レンズへの回折光を遮る遮光部材を更に有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 7/20 521
