基板温度制御装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：木村高久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-057992
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260677
出願日： 1999年03月05日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】本発明の課題は、基板の加熱/冷却時における温調プレートの変形を伴うことなく、上記温調プレートを所定位置に占位させることの可能な基板温度制御装置を提供することにある。本発明の基板温度制御装置1は、温調プレート2を水平方向に展開する姿勢で支持するとともに水平方向へ移動自在に支持する上下方向支持手段10と、温調プレート2に設けられて該温調プレート2の径方向に延びる長孔21aを有する位置決めプレート21と、チャンバー3のベース(支持台)3Aに設けられて位置決めプレート21の長孔21aに嵌合する位置決めピン22と、温調プレート2を該温調プレート2の中心方向へ付勢するスプリングプランジャ23とを備え、温調プレート2における外周域の少なくとも2箇所以上に、互いに等しい中心角を有して配設された水平方向支持手段20とを具備している。

請求項（抜粋）：

円盤状を呈する温調プレートを支持台に設置して成る基板温度制御装置であって、前記温調プレートを、水平方向に展開する姿勢で支持するとともに、水平方向へ移動自在に支持する上下方向支持手段と、前記温調プレートおよび支持台の一方に設けられ前記温調プレートの径方向に延びる長孔を有する位置決めプレートと、前記温調プレートおよび支持台の他方に設けられ前記位置決めプレートの長孔に嵌合する位置決めピンと、前記温調プレートを該温調プレートの中心方向へ付勢するスプリングプランジャとを備え、前記温調プレートにおける外周域の少なくとも2箇所以上に、互いに等しい中心角を有して配設された水平方向支持手段とを具備し、前記支持台に対する前記温調プレートの水平移動および回転移動を規制することを特徴とする基板温度制御装置。

Fターム (2件)：

5F046KA01 , 5F046KA10

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