露光装置およびデバイス製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：丸島儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-095895
公開番号（公開出願番号）：特開平11-297587
出願日： 1998年04月08日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】ステージの移動に伴う振動や揺れの影響を軽減し、またステージの加減速に伴う反力が床に及ぼす影響を小さくすることで同一床に設置されている他の装置に与える影響を小さくする。【解決手段】被露光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージベース部材とは異なる反力受け構造体とを有し、該反力受け構造体と床との間で所定周波数以上の振動伝達を遮断する。反力受け構造体を床もしくはベースフレームに対して弾性支持する弾性支持体と、前記ステージベース部材と前記反力受け構造体の間で力を発生するリニアモータ等の力アクチュエータを有する。所定周波数は床の固有振動数以下である。

請求項（抜粋）：

被露光物を搭載して移動可能なステージと、該ステージを支持するステージベース部材と、該ステージを駆動した際の反力を受けるための該ステージベースとは異なる反力受け構造体とを有し、該反力受け構造体と床との間で所定周波数以上の振動伝達が遮断されていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , F16F 15/02 , G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 518 , F16F 15/02 A , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 516 B

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開平4-333110
特開平2-001585
露光装置、デバイス製造方法およびステージ装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-219040 出願人：キヤノン株式会社

全件表示

前のページに戻る