特許

J-GLOBAL ID：200903034208672778

プラズマ発生装置

発明者： 中野 孝紀 ,  谷口 浩
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 野河 信太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-066177
公開番号（公開出願番号）：特開2000-260598
出願日： 1999年03月12日
公開日（公表日）： 2000年09月22日
要約：

【要約】【課題】 半導体成膜装置等において膜質の向上のために電極に供給する供給電力の周波数を上げかつ電極の長さが電極に供給される高周波の波長に対して無視できない程度に大きくなった場合でも、インピーダンスの発生を抑えて電極面内における高周波電界の強度分布の均一化を図り、成膜速度及び膜質の均一化を可能とするプラズマ発生装置を得る。【解決手段】 プラズマCVD装置10は、高周波電源4と、材料ガスGが供給される反応容器1と、反応容器1内に対向して配置され高周波電源4から供給される高周波電力によって電極2、3間にプラズマを発生させる電極2、3対と、反応容器1の底板部1aとして形成され、一方側に高周波電源4側と接続される少なくとも1つの電源接続点6を有し、他方側にカソード電極2と接続される少なくとも1つの電極接続点8を有する導電性接続部材とを備え、導電性接続部材が、電源接続点6の近傍に形成され電源接続点6と電極接続点8との間のインピーダンスを調節するためのスルーホール7(高周波電流伝達手段)を有する。

請求項（抜粋）：

高周波電源部と、材料ガスが供給される反応容器と、反応容器内に対向して配置され高周波電源部から供給される高周波電力によって電極間にプラズマを発生させる電極対と、反応容器の外壁面の一部として形成され、一方側に高周波電源部と接続される少なくとも1つの電源接続点を有し、他方側に電極対の一方と接続される少なくとも1つの電極接続点を有する導電性接続部材とを備え、導電性接続部材が、電源接続点の近傍に形成され電源接続点と電極接続点との間のインピーダンスを調節するための高周波電流伝達手段を有することを特徴とするプラズマ発生装置。

IPC (4件)：

H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

H05H 1/46 M ,  C23C 16/50 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C

Fターム (35件)：

4K030AA06 ,  4K030AA17 ,  4K030BA30 ,  4K030EA04 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030JA18 ,  4K030KA08 ,  4K030KA15 ,  4K030KA30 ,  4K030KA45 ,  4K030LA16 ,  4K030LA18 ,  5F004AA01 ,  5F004BA06 ,  5F004BB13 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004BD04 ,  5F004CA03 ,  5F004CA09 ,  5F045AA08 ,  5F045AB04 ,  5F045AC01 ,  5F045AE19 ,  5F045AF07 ,  5F045AF10 ,  5F045BB02 ,  5F045BB09 ,  5F045EF05 ,  5F045EH01 ,  5F045EH04 ,  5F045EH05 ,  5F045EH14 ,  5F045EH19