特許

J-GLOBAL ID：200903034216479537

真空排気装置及び真空処理装置

発明者： 岩田 輝夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-303822
公開番号（公開出願番号）：特開平9-125227
出願日： 1995年10月27日
公開日（公表日）： 1997年05月13日
要約：

【要約】【課題】 例えば粗引き用に用いる真空ポンプの小型化を図り、真空処理室の近傍に前記真空ポンプを設置すること。【解決手段】 粗引き用に用いる真空ポンプであるドライポンプ5の低圧側を、排気しようとするガスを機械的に圧縮するメカニカルポンプ部P1にて構成し、高圧側を、吸引ガスを噴射させることにより排気しようとするガスを吸引して排気を行うエジェクタ方式のエジェクタポンプ部P2にて構成する。メカニカルポンプ部P1の排気側圧力は低いため、ガスの圧縮に要する仕事量は従来に比べて格段に小さく、これによりモータが小型化し、冷却機構も不要となる。従ってドライポンプが小型化し、これによって真空処理室の近傍にドライポンプを設置できる。

請求項（抜粋）：

ガスの移送空間を形成するためのポンプ段を排気方向に複数接続し、前段の移送空間内にガスを吸い込むときには当該移送空間と後段の移送空間とは隔離され、最前段の移送空間から最後段の移送空間に順次ガスを受け渡すことにより最後段のポンプ段から最前段のポンプ段に向けて順次圧力を低くする真空ポンプよりなる真空排気装置において、最後段のポンプ段の排気路中に排気方向と同じ方向に吸引用ガスを噴射させるガス噴射手段を設けたことを特徴とする真空排気装置。

IPC (6件)：

C23C 14/00 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31

FI (6件)：

C23C 14/00 C ,  C23F 4/00 Z ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 B ,  H01L 21/302 A