特許

J-GLOBAL ID：200903034220140528

磁気記録媒体の製造方法

発明者： 市原 貴幸 ,  本田 好範
出願人/特許権者： ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ
代理人 (2件)： 平木 祐輔 ,  渡辺 敏章
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-135219
公開番号（公開出願番号）：特開2006-313584
出願日： 2005年05月06日
公開日（公表日）： 2006年11月16日
要約：

【課題】 Siと酸素を含むグラニュラー記録層の成膜時に生じる、巨大な珪素酸化物の堆積による媒体表面の突起を抑制し、浮上性及び信頼性に優れた磁気記録媒体を高い歩留で製造する。【解決手段】 少なくともCoを含む合金と、結晶質SiO2粉末を混合したターゲットを用いてスパッタリング法を用いて記録層を成膜する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

非磁性基板上に、非磁性の下地層を形成する工程と、前記非磁性の下地層の上に少なくともCoと珪素と酸素とを含む記録層をスパッタリング法で形成する工程とを有する磁気記録媒体の製造方法において、 前記記録層を形成する工程で用いるスパッタリングターゲットは、少なくともCo又はCoを含む合金と二酸化珪素粉末とを含み、前記二酸化珪素粉末は結晶質であることを特徴とする、磁気記録媒体の製造方法。

IPC (6件)：

G11B 5/851 ,  C22C 19/07 ,  C22C 32/00 ,  C23C 14/34 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/667

FI (6件)：

G11B5/851 ,  C22C19/07 C ,  C22C32/00 P ,  C23C14/34 A ,  G11B5/65 ,  G11B5/667

Fターム (21件)：

4K029BC06 ,  4K029BD11 ,  4K029DC02 ,  4K029DC04 ,  4K029DC05 ,  5D006BB02 ,  5D006BB06 ,  5D006BB08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA05 ,  5D112AA02 ,  5D112AA03 ,  5D112AA04 ,  5D112AA05 ,  5D112BA01 ,  5D112BB05 ,  5D112BB06 ,  5D112BB10 ,  5D112BD03 ,  5D112FA04 ,  5D112FB14

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 垂直磁気記録媒体及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-374897   出願人：富士電機株式会社
• 長手記録用磁気記録媒体およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-379143   出願人：富士電機株式会社