特許

J-GLOBAL ID：200903034239920044

高分子光導波路の製造方法

発明者： 吉村 求 ,  熊田 輝彦 ,  平松 星紀 ,  南 伸太朗 ,  中尾 之泰 ,  西岡 孝博 ,  蔵田 哲之
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 朝日奈 宗太 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-139682
公開番号（公開出願番号）：特開2001-318248
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】 高分子導波路の原材料の塗布過程が同一の高分子を用いて2回で済み、作製工程を効率化させ製作コストの低減化を図る。シングルモードとマルチモードの導波路の作製が精度よく容易にできるようにするとともに、多機能・多層化の光導波路を容易に提供できるようにする。【解決手段】 基板上にシラノール型有機シロキサン系高分子を塗布し、パターニングしたのちに、アルキル化ゲルマニウムアミンまたはアルキル化シリコンアミンとアルキル化ゲルマニウムアミンとの蒸気に曝すことにより、コア部を形成する。

請求項（抜粋）：

基板上にシラノール型有機シロキサン系高分子を塗布し、その上にレジストを塗布してパターニングしたのちに、アルキル化ゲルマニウムアミンまたはアルキル化シリコンアミンとアルキル化ゲルマニウムアミンとの混合物の蒸気に曝すことを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/12 ,  G02B 6/13

FI (2件)：

G02B 6/12 N ,  G02B 6/12 M

Fターム (8件)：

2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07 ,  2H047TA43