特許
J-GLOBAL ID：200903034263468306
エキシマーレーザまたは分子フッ素レーザ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-105895
公開番号（公開出願番号）：特開2000-315831
出願日： 2000年04月07日
公開日（公表日）： 2000年11月14日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 高い反復率で動作する、線幅を狭くしたエキシマーレーザまたは分子フッ素レーザ用の効率的な放電ユニットを提供する。【解決手段】 エキシマーレーザまたは分子フッ素レーザは、ガスフロー容器に接続され、また一対の主電極およびそれぞれが放電回路に接続された前期電離ユニットを有する電極チャンバを備えている。スポイラが電極チャンバ内に設けられて、主電極間の放電領域を通る一層均一なガスフローを提供するように、主電極の1つから前期電離ユニットの1つを遮蔽するように、また放電領域内で発生した音響波をガスフロー容器内にその中で吸収するために反射するように形成される。さらに、複数の誘導率が低い導電性のリブがグラウンドされた主電極に接続されて、隣接するリブの間で規定された開口を通過するガスの流れを一層均一にするように形成される。
請求項（抜粋）：
エキシマーレーザまたは分子フッ素レーザであって、中にレーザガス混合体を有するレーザチューブを規定するガスフロー容器と接続された電極チャンバと、前記電極チャンバ内の放電領域によって分離された一対の細長い主電極と、前記電極チャンバ内の前期電離ユニットと、前記ガス混合体を付勢する放電回路と、レーザビームを発生する共振器と、前記各主電極から間隔を空けて配置され前記放電領域を通過する均一なガスフローを提供するように形成された、前記チャンバと一体化されたスポイラと、を備えることを特徴とするレーザ。
IPC (4件)：
H01S 3/036
, H01S 3/032
, H01S 3/097
, H01S 3/225
H01S 3/03 J
, H01S 3/03 F
, H01S 3/097
, H01S 3/223 E
