特許

J-GLOBAL ID：200903034266810951

水溶性重合体含水ゲルの乾燥方法

発明者： 木下 太司 ,  塩路 尚武
出願人/特許権者： 株式会社日本触媒
代理人 (2件)： 安富 康男 ,  玉井 敬憲
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-031564
公開番号（公開出願番号）：特開2004-238571
出願日： 2003年02月07日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】水溶性重合体含水ゲルの乾燥において工程の簡略化を図ることが可能であり、しかも乾燥したゲルの物性が低下することを抑制することができる水溶性重合体含水ゲルの乾燥方法を提供する。【解決手段】水溶性重合体含水ゲルにマイクロ波を照射して水分を乾燥する工程を必須としてなる水溶性重合体含水ゲルの乾燥方法であって、マイクロ波照射後の該水溶性重合体含水ゲルの残留水分量は3〜10質量%である水溶性重合体含水ゲルの乾燥方法。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

水溶性重合体を含む水溶性重合体含水ゲルにマイクロ波を照射して水分を乾燥する工程を必須としてなる水溶性重合体含水ゲルの乾燥方法であって、マイクロ波照射後の該水溶性重合体含水ゲルの残留水分量を3〜10質量%とする ことを特徴とする水溶性重合体含水ゲルの乾燥方法。

IPC (4件)：

C08J3/28 ,  F26B13/10 ,  F26B23/08 ,  F26B25/00

FI (4件)：

C08J3/28 ,  F26B13/10 A ,  F26B23/08 C ,  F26B25/00 F

Fターム (12件)：

3L113AA02 ,  3L113AB02 ,  3L113AC01 ,  3L113AC07 ,  3L113AC36 ,  3L113BA26 ,  3L113CA02 ,  3L113DA02 ,  3L113DA10 ,  4F070AA29 ,  4F070HA08 ,  4F070HB15