特許
J-GLOBAL ID:200903034276547469

局部洗浄装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 西川 惠清 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-010610
公開番号(公開出願番号):特開2002-213004
出願日: 2001年01月18日
公開日(公表日): 2002年07月31日
要約:
【要約】【課題】 局部洗浄ノズルに付着した汚物等を確実に清浄化する。【解決手段】 局部を洗浄する局部洗浄ノズル1を使用姿勢と格納姿勢とに変更可能に設けた局部洗浄装置である。局部洗浄ノズル1を先端に備えたスライダー2をシリンダー3に出退自在に設ける。スライダー2をシリンダー3内に収納した局部洗浄ノズル1の格納姿勢においては局部洗浄ノズル1がシリンダー3より突出しているように構成する。局部洗浄ノズル1の格納姿勢で局部洗浄ノズル1に付着した汚物等を噴射洗浄して落とすノズル噴射洗浄手段4を設ける。
請求項(抜粋):
局部を洗浄する局部洗浄ノズルを使用姿勢と格納姿勢とに変更可能に設けた局部洗浄装置であって、局部洗浄ノズルを先端に備えたスライダーをシリンダーに出退自在に設け、スライダーをシリンダー内に収納した局部洗浄ノズルの格納姿勢においては局部洗浄ノズルがシリンダーより突出しているように構成し、局部洗浄ノズルの少なくとも格納姿勢で局部洗浄ノズルに付着した汚物等を噴射洗浄して落とすノズル噴射洗浄手段を設けて成ることを特徴とする局部洗浄装置。
Fターム (4件):
2D038JA01 ,  2D038JA05 ,  2D038JC00 ,  2D038JF06
引用特許:
審査官引用 (2件)

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