特許
J-GLOBAL ID：200903034285854080

リソグラフィマスクアライメント

発明者：
ヤング チェン

ヤング チェン について


出願人/特許権者：
ヒューレット-パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー.

ヒューレット-パッカード デベロップメント カンパニー エル.ピー. について


代理人 (4件)： 後藤 政喜 ,  上野 英夫 ,  藤井 正弘 ,  飯田 雅昭
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-535728
公開番号（公開出願番号）：特表2008-516450
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2008年05月15日
要約：
リソグラフィマスク(62)を位置合わせするシステム及び方法を説明する。一態様では、基板(8)上の基板アライメントマーク(70)とリソグラフィマスク(62)上のマスクアライメントマーク(68)との間の推進力に少なくとも部分的に基づいて、基板(8)とリソグラフィマスク(62)とが位置合わせされ、これは、基板(8)とリソグラフィマスク(62)との少なくとも一方を移動させて相互アランメントさせる。
請求項（抜粋）：
基板(8)とリソグラフィマスク(62)とを、基板(8)上の基板アライメントマーク(70)とリソグラフィマスク(62)上のマスクアライメントマーク(68)との間の推進力に少なくとも部分的に基づいて位置合わせすることであって、基板(8)とリソグラフィマスク(62)との少なくとも一方を移動させて相互アランメントさせる、基板(8)とリソグラフィマスク(62)とを位置合わせすることを含むことを特徴とするリソグラフィ方法。
IPC (1件)：
H01L 21/027
FI (3件)：
H01L21/30 507Z ,  H01L21/30 502D ,  H01L21/30 502M
Fターム (5件)：
5F046AA28 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046EA30 ,  5F046FC10
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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