特許
J-GLOBAL ID:200903034295617133

増殖性皮膚疾患の光線療法による治療法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清水 初志
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-524121
公開番号(公開出願番号):特表平9-511237
出願日: 1995年03月13日
公開日(公表日): 1997年11月11日
要約:
【要約】本発明は、皮膚に例えば乾癬のような増殖性皮膚疾患の病変領域と非病変領域とがあるヒトにおいて、その皮膚疾患を治療する方法である。本方法は、以下の(1)〜(3)の段階よりなる。即ち(1)皮膚の病変領域と非病変領域に光保護作用をもたらす光線遮蔽剤を局所的に適用する段階、(2)病変領域の皮膚が実質的に脱落するのに充分な時間待機する段階、および(3)選択された光線照射レベルに患者の皮膚の病変領域と非病変領域とをさらす段階である。光線照射レベルは、皮膚の病変領域を治療するには充分で、かつ皮膚の非病変領域に重篤な損傷を与えるには不十分なように選択される。この方法は、皮膚の非病変領域に好適な光保護作用をもたらすことによって治療の効果および安全性を高め、光線療法治療、光化学的治療法、または光力学的治療法に利用することができる。
請求項(抜粋):
皮膚に病変領域および非病変領域を有するヒトの患者において増殖性皮膚疾患を治療するための薬物の調製における光保護作用を有する光線遮蔽剤の使用において、該疾患が該皮膚の病変領域が該皮膚の非病変領域よりも速い速度で腐肉する疾患であり、また該光線遮蔽剤が該皮膚の病変領域および非病変領域に局所適用され、薬物の使用者が該病変領域の皮膚が該非病変領域の皮膚よりも脱落の程度が大きくなるように充分な時間待機した後、該患者の該皮膚の病変領域および非病変領域が、該皮膚の病変領域を治療するには充分でかつ該皮膚の非病変領域に重篤な損傷を与えるには不十分なように選択されたレベルの光線照射にさらされるものである、光線遮蔽剤の使用。
IPC (12件):
A61K 45/00 ,  A61K 7/42 ,  A61K 31/12 ,  A61K 31/185 ,  A61K 31/195 ,  A61K 31/35 ,  A61K 31/44 ADA ,  A61K 31/60 ,  C07D311/16 ,  C07D405/04 213 ,  C07D487/22 ,  C07D493/04 106
FI (12件):
A61K 45/00 ,  A61K 7/42 ,  A61K 31/12 ,  A61K 31/185 ,  A61K 31/195 ,  A61K 31/35 ,  A61K 31/44 ADA ,  A61K 31/60 ,  C07D311/16 ,  C07D405/04 213 ,  C07D487/22 ,  C07D493/04 106 D
引用文献:
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