特許

J-GLOBAL ID：200903034301613692

三価ヒ素イオンの除去方法

発明者： 和久井 喜人 ,  横山 敏郎
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院東北工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-312907
公開番号（公開出願番号）：特開平10-137504
出願日： 1996年11月08日
公開日（公表日）： 1998年05月26日
要約：

【要約】【課題】 三価ヒ素イオンの除去方法を提供する。【解決手段】 三価ヒ素イオン含有水溶液から三価ヒ素イオンを除去するに当たり、該水溶液を化学式(1)に示される化合物を含む有機溶媒又は該化合物を担持した多孔質樹脂と接触させて三価ヒ素イオンを水相から有機相又は樹脂中に移行させることにより三価ヒ素イオンを除去する。また、三価ヒ素イオンを担持した樹脂を、pH10以上のアルカリ性水溶液と接触させて三価ヒ素イオンを樹脂中から水相に移行させることにより三価ヒ素イオンを回収する。【化1】【効果】 三価ヒ素イオンとして水溶液中に存在するヒ素、特に従来回収困難とされていた希薄な濃度の三価ヒ素イオン含有水溶液から効率よくヒ素を分離、除去することができる。

請求項（抜粋）：

三価ヒ素イオン含有水溶液から三価ヒ素イオンを除去するに当たり、該水溶液を化学式(1)【化1】に示される化合物を含む有機溶媒と接触させて三価ヒ素イオンを水相から有機相に移行させることを特徴とする三価ヒ素イオンの除去方法。

IPC (3件)：

B01D 11/04 ZAB ,  C02F 1/26 ,  C02F 1/62

FI (3件)：

B01D 11/04 ZAB B ,  C02F 1/26 A ,  C02F 1/62 Z