特許

J-GLOBAL ID：200903034305069172

走査型露光装置

発明者： 坂井 文夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-058871
公開番号（公開出願番号）：特開2001-250757
出願日： 2000年03月03日
公開日（公表日）： 2001年09月14日
要約：

【要約】【課題】 同期精度を損なう事なく、走査速度を最高まで上げ、スループット向上を図る。【解決手段】 原版であるレチクル3上の転写領域内に形成されたパターンを被転写物であるウエハ5上の被露光領域に投影する投影光学系4と、光源1より供給された光で、レチクル3を照明する照明光学系2と、レチクル3とウエハ5の位置を測定する測定手段として計測系10,12などを持ち、投影光学系4に対してレチクル3とウエハ5の各々の位置を制御しながら、レチクル3とウエハ5を所定の走査速度で走査するためのステージ6,7および制御系11,13を有し、レチクル3とウエハ5の各々の位置を制御すべくステージ6,7を駆動する駆動量に応じて前記走査速度を可変とする。

請求項（抜粋）：

原版上の転写領域内に形成されたパターンを被転写物上の被露光領域に投影する投影光学系と、光源より供給された光で、前記原版を照明する照明光学系と、前記原版と前記被転写物の位置を測定する測定手段とを持ち、前記投影光学系に対して前記原版と前記被転写物の相対位置および前記原版と前記被転写物の各々の位置の少なくともいずれかを制御しながら、前記原版と前記被転写物を所定の走査速度で走査するためのステージおよび制御系を有する走査型露光装置において、前記相対位置および前記各々の位置の少なくともいずれかを制御すべく前記ステージを駆動する駆動量に応じて前記走査速度を可変とすることを特徴とする走査型露光装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  G02F 1/13 101 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/305

FI (6件)：

G02F 1/13 101 ,  G03F 7/20 521 ,  H01J 37/20 D ,  H01J 37/305 B ,  H01L 21/30 516 B ,  H01L 21/30 518

Fターム (16件)：

2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088MA20 ,  5C001AA03 ,  5C001CC04 ,  5C001CC06 ,  5C034BB05 ,  5C034BB06 ,  5C034BB07 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC05 ,  5F046CC15 ,  5F046DB05 ,  5F046DB10