特許
J-GLOBAL ID：200903034312472306
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-174162
公開番号（公開出願番号）：特開平7-029802
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1995年01月31日
要約：
【要約】【目的】 ペリクル等の有無に拘らず、常に所定の結像状態でウエハ上にレチクルのパターン像を投影露光する。【構成】 レチクルRにペリクル28,29が装着されているか否かをペリクル判別器24,25、又はバーコードリーダ27等により判別し、この判別結果を主制御装置26に入力する。主制御装置26は、ペリクル28,29の有無に応じてレチクルRの熱変形量を算出し、この熱変形量からウエハW上での投影像の倍率等の変化量を算出する。その倍率等の変化量を相殺するように、駆動素子制御部23を介して投影光学系PLの投影倍率等を補正する。
請求項（抜粋）：
照明光でマスク上のパターンを照明する照明光学系と、前記マスクのパターンの像を所定の結像状態で感光基板上に露光する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記マスクの形状を表す形状データを入力するデータ入力手段と、該データ入力手段から入力された前記形状データに基づき、前記マスクの熱変形量に応じて生じる前記所定の結像状態の変化量を算出する演算手段と、該演算手段により算出された変化量を相殺するように前記投影光学系の結像状態を補正する結像状態補正手段と、を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/207
, G06K 9/78
