特許
J-GLOBAL ID：200903034323547456
新規オニウム塩およびそれを含有する感放射線性樹脂 組成物
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-358730
公開番号（公開出願番号）：特開平6-199770
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1994年07月19日
要約：
【要約】【目的】 レジスト溶液の溶媒に対する溶解性および各種の樹脂との相溶性に優れた新規オニウム塩、並びに該オニウム塩を含有し、塗布性、露光後焼成の条件に対するパターン形状の安定性等に優れたレジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。【構成】 オニウム塩は、炭素数6以上の直鎖アルキル基をスルホネートアニオンまたはスルフェートアニオン中に含有するスルホニウム塩またはヨードニウム塩からなる。感放射線性樹脂組成物は、ポジ型感放射線性樹脂組成物では、(1) 前記オニウム塩並びに酸解離性基含有樹脂を含有するか、(2)前記オニウム塩、アルカリ可溶性樹脂並びに酸解離性樹脂および/または溶解制御剤を含有し、また、ネガ型感放射線性樹脂組成物では、(3)前記オニウム塩、アルカリ可溶性樹脂並びに架橋剤を含有する。
請求項（抜粋）：
下記式(1)または(2)で表されるオニウム塩。【化1】【化2】〔式(1)および(2)において、Aは酸素原子またはメチレン基を示し、Bはフェニレン基、ナフチレン基またはアントリレン基を示し、Dは SO3基またはOSO3基を示し、Xは1価の芳香族有機基を示し、複数存在するXは相互に同一でも異なってもよく、Yはアルキル基、シクロアルキル基、アラルキル基またはフェナシル基を示し、複数存在するYは相互に同一でも異なってもよく、Zは式(1)中のS原子または式(2)中のI原子とともに脂肪族もしくは芳香族の複素環式構造を形成する2価の有機基を示し、mは5〜40の整数、nは0または1、aは式(1)では0〜3の整数、式(2)では0〜2の整数、bは0〜2の整数、cは0または1であり、式(1)においては、a+b+2c=3、式(2)においては、a+b+2c=2である。〕
IPC (12件)：
C07C305/22
, C07C 25/02
, C07C 25/18
, C07C309/35
, C07C309/38
, C07C381/12
, C07D327/08
, G03F 7/004 503
, G03F 7/029
, G03F 7/038 505
, G03F 7/039 501
, H01L 21/027
