特許
J-GLOBAL ID：200903034329443652
ケイ素系高分子
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-293879
公開番号（公開出願番号）：特開平5-105767
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月27日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、両末端が反応性アルケニル基で規制されたケイ素系高分子及びその製造方法を提供するものである。【構成】 本発明は、(A)1分子中に少なくとも2つ以上のSiH基を有するケイ素化合物、(B)1分子中に少なくとも2つ以上のアルケニル基を有する化合物、両成分のヒドロシリル化反応によって合成される両末端に反応性アルケニル基を有するケイ素系高分子である。。
請求項（抜粋）：
(A)1分子中に少なくとも2つ以上のSiH基を有するケイ素化合物、(B)1分子中に少なくとも2つ以上のアルケニル基を有する化合物、両成分のヒドロシリル化反応によって合成される両末端に反応性アルケニル基を有するケイ素系高分子。
IPC (2件)：
C08G 77/60 NUM
, C08G 77/48
