特許

J-GLOBAL ID：200903034333467620

感光性樹脂組成物及びこれを用いたレリーフパターンの製造法

発明者： 土川 信次 ,  西澤 ▲広▼ ,  太田 文彦 ,  川上 広幸 ,  坂田 淘一
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-180192
公開番号（公開出願番号）：特開平11-024267
出願日： 1997年07月04日
公開日（公表日）： 1999年01月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 耐PCT性、低温硬化性、はんだ耐熱性、耐めっき液性、等が優れた感光性樹脂組成物及び層間絶縁膜等に好適なレリーフパターンの製造法を提供する。【解決手段】 (A)一般式(1)(式中、Ar1は芳香環を含む4価の有機基を示す)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、一般式(2)(式中、Ar2は芳香環を含む2価の有機基を示す)で表されるジアミン化合物と、一般式(3)(式中、k個のRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子等、を示し、kは1〜4の整数である)で表されるアミノベンズイミダゾールとを反応させてなる芳香族ポリアミック酸化合物、(B)末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物及び(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物並びにこの感光性樹脂組成物の層を、基板上に形成し、像的に露光し、次いで現像を行うレリーフパターンの製造法。

請求項（抜粋）：

(A)一般式(1)【化1】(式中、Ar1は芳香環を含む4価の有機基を示す)で表されるテトラカルボン酸二無水物と、一般式(2)【化2】(式中、Ar2は芳香環を含む2価の有機基を示す)で表されるジアミン化合物と、一般式(3)【化3】(式中、k個のRは、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基又は炭素数1〜9のアルキル基を示し、kは1〜4の整数である)で表されるアミノベンズイミダゾールとを反応させてなる芳香族ポリアミック酸化合物、(B)末端にエチレン性不飽和基を有する光重合性不飽和化合物及び(C)活性光の照射により遊離ラジカルを生成する光重合開始剤を含有してなる感光性樹脂組成物。

IPC (11件)：

G03F 7/038 504 ,  C08L 55/00 ,  C08L 57/00 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06 ,  H05K 3/18 ,  H05K 3/28 ,  C08F246/00 ,  C08F290/06

FI (11件)：

G03F 7/038 504 ,  C08L 55/00 ,  C08L 57/00 ,  C08L 79/08 ,  G03F 7/027 502 ,  G03F 7/028 ,  H05K 3/06 H ,  H05K 3/18 D ,  H05K 3/28 D ,  C08F246/00 ,  C08F290/06