特許
J-GLOBAL ID:200903034335608264

レジスト現像装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-118055
公開番号(公開出願番号):特開平7-326559
出願日: 1994年05月31日
公開日(公表日): 1995年12月12日
要約:
【要約】【目的】 現像途中のレジストの最適化条件を連続的にモニター可能なレジスト現像装置を提供する。【構成】 スプレー現像機27と発光装置31を具えている。スプレー現像機は、基板回転機構部15と現像液噴射ノズル部21とを具え、発光装置は光源26と、この光源を点滅制御させる点滅制御回路30とを具えている。また、点滅制御回路は、基板回転機構部の回転周期を検知する回転周期検知手段35と、この検知された回転周期に同期して光源を点滅させる同期回路115を具えている。
請求項(抜粋):
ウエハの上側にレジスト層を設けた基板を現像するレジスト現像装置において、スプレー現像機と発光装置とを具え、前記スプレー現像機は、基板回転機構部と現像液噴射ノズル部とを具え、前記発光装置は、光源と、この光源を点滅制御させる点滅制御回路とを具え、該点滅制御回路は、前記基板回転機構部の回転周期を検知する回転周期検知手段と、該検知された回転周期に同期して前記光源を点滅させる同期回路とを具えていることを特徴とするレジスト現像装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502
FI (2件):
H01L 21/30 569 F ,  H01L 21/30 569 G

前のページに戻る