洗浄方法および洗浄装置

発明者： , ,
出願人/特許権者： , ,
代理人 (1件)：野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-021214
公開番号（公開出願番号）：特開平9-206714
出願日： 1996年02月07日
公開日（公表日）： 1997年08月12日
要約：

【要約】【課題】液晶基板の洗浄工程において、ブラシを用いる洗浄や低周波の超音波振動を付与した純水を用いた洗浄では、有機物や金属汚染物を有効に除去することができない。【解決手段】洗浄槽41にオゾンが混合された純水(オゾン水)が満たされ、その中に被洗浄物が浸漬される。洗浄槽41の底部に設けられた振動部42から発せられる超音波振動が純水内に伝達される。超音波振動により被洗浄物表面のパーティクルを除去でき、またオゾン水の酸化力により、有機物や金属が除去できる。洗浄槽41は金属製であり、その内面にCr2O3不動態膜が形成されている。この不動態膜によりオゾン水による酸化劣化が生じなくなり、また洗浄槽41が金属製であるため、振動部42からの振動が洗浄槽41の平面からオゾン水に効果的に伝達される。

請求項（抜粋）：

純水にオゾンを混合したオゾン水を生成し、このオゾン水に超音波振動を印加して、被洗浄物に噴射または滴下し、前記被洗浄物を洗浄することを特徴とする洗浄方法。

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