特許
J-GLOBAL ID：200903034345592552
熱処理装置及び熱処理方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
井上 一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-250030
公開番号（公開出願番号）：特開平7-099164
出願日： 1993年09月09日
公開日（公表日）： 1995年04月11日
要約：
【要約】【目的】 冷却速度を急速かつ均一に行なうことができる冷却構造を備えた熱処理装置を提供すること。【構成】 プロセスチューブ10の外壁10Aと発熱抵抗体26との間の空隙部40に開口を位置させて空気を流通させるノズル50を設け、このノズル50の開口を、半導体ウエハ18の配列領域に対向するプロセスチューブ10のへ器部に向け傾斜させている。しかも、開口は、半導体ウエハの配列領域の長さに応じて、自然放熱ができない位置に向け空気を吹出させる角度および位置決めが行なわれている。従って、プロセスチューブ10における自然放熱が行なえない箇所を強制的に冷却することでプロセスチューブ10の全域での冷却効率を均等化して降温時間を短縮する。
請求項（抜粋）：
少なくとも一つの開口を有する複数枚の被処理体をバッチ処理する縦型プロセスチューブと、上記縦型プロセスチューブの周囲に設けられた断熱材と、上記断熱材及び上記縦型プロセスチューブ間に設けられ、表面負荷が10W/cm2 以上であり、上記プロセスチューブ内の被処理体を輻射加熱する発熱抵抗体と、上記縦型プロセスチューブの開口より、上記複数枚の被処理体が設けられるボートを搬入出するために昇降可能な搬送機構と、上記ボートを支持するごとく設けられた保温部材と、上記プロセスチューブの外壁及び上記発熱抵抗体間の空隙部に開口を位置させて気体を流通させるノズルと、を備え、上記ノズルの開口は、ウエハ配列領域に対向するプロセスチューブの壁面に上記気体を吹き付けるように設けることを特徴とする熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22
, H01L 21/205
, H01L 21/31
