特許
J-GLOBAL ID:200903034345850764

平型半導体素子用スタック

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外7名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-002855
公開番号(公開出願番号):特開2001-196535
出願日: 2000年01月11日
公開日(公表日): 2001年07月19日
要約:
【要約】【課題】 積層体を確実に加圧し、その加圧力を目で直接確認できるようにする。【解決手段】 平型半導体素子17とヒートシンク19とを交互に積層した積層体1の両端を支持する加圧支持体7,9の少なくともいずれか一方に、前記積層体1を積層方向に沿って加圧する加圧手段25と、加圧手段25によって積層方向に加圧される加圧方向の動き量を加圧力として表示する第1の加圧目盛55と、加圧軸心を中心とする回転方向の動き量を加圧力として表示する第2の加圧目盛57とによって表示する加圧力表示手段27とを備え、第1、第2の加圧目盛55,57により加圧力を直接目で確認する。
請求項(抜粋):
平型半導体素子とヒートシンクとを交互に積層した積層体の両端を支持する加圧支持体の少なくともいずれか一方に、前記積層体を積層方向に沿って加圧する加圧手段と、この加圧手段によって積層方向に加圧される加圧方向の動き量を加圧力として表示する第1の加圧目盛と、加圧軸心を中心とする回転方向の動き量を加圧力として表示する第2の加圧目盛とによって表示する加圧力表示手段とを備えていることを特徴とする平型半導体素子用スタック。
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特公昭51-008167
  • 特開昭49-072626

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