特許

J-GLOBAL ID：200903034360606365

電着レジスト皮膜の製版方法

発明者： 崎浜 信宏 ,  百瀬 輝寿
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 小西 淳美
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-305530
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135391
出願日： 1996年11月01日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 リードフレームのめっきマスクとして用いられる感光性の電着レジスト皮膜の製版を、めっき処理工程に耐える程度に均一に行える電着レジスト皮膜の製版方法を提供する。【解決手段】 辺部等のエッジ部を有するリードフレーム等の試料面に、ネガ型の感光性の電着レジスト皮膜を形成し、該電着レジスト皮膜の所定領域を除去し、試料面を露出させる製版方法であって、少なくとも順に、(a)ネガ型の感光性の電着レジスト皮膜を電着により試料の表面に形成する皮膜形成工程と、(b)所定の温度をかけてレジストの癒合を行い、電着レジスト皮膜の形状をコントロールする形状調整工程と、(c)電着レジスト皮膜の所定領域を露光して硬化させる露光工程と、(d)現像処理を行い、電着レジスト皮膜の所定領域を除去し、試料面を露出させる現像工程とを有する。

請求項（抜粋）：

辺部等のエッジ部を有する試料面に、ネガ型の感光性の電着レジスト皮膜を形成し、該電着レジスト皮膜の所定領域を除去し、試料面を露出させる製版方法であって、少なくとも順に、(a)ネガ型の感光性の電着レジスト皮膜を電着により試料の表面に形成する皮膜形成工程と、(b)所定の温度をかけてレジストの癒合を行い、電着レジスト皮膜の形状をコントロールする形状調整工程と、(c)電着レジスト皮膜の所定領域を露光して硬化させる露光工程と、(d)現像処理を行い、電着レジスト皮膜の所定領域を除去し、試料面を露出させる現像工程とを有することを特徴とする電着レジスト皮膜の製版方法。

IPC (3件)：

H01L 23/50 ,  C25D 5/02 ,  H01L 23/48

FI (3件)：

H01L 23/50 B ,  C25D 5/02 D ,  H01L 23/48 P