特許
J-GLOBAL ID：200903034378358679
基板保持装置、基板保持方法、露光装置およびデバイス製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-145805
公開番号（公開出願番号）：特開2002-343852
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年11月29日
要約：
【要約】【課題】 ウエハチャックの真空吸着力をシーケンスごとに最適化する。【解決手段】 吸着面1aにウエハを吸着するウエハチャック1は、配管2a、2bによって真空吸着力を発生する。この吸着部10とバキューム源4との間に吸着力可変機構20を設けて、少なくとも2段階に真空吸着力を切り換える。すなわち、ウエハの供給回収時には、弱い真空吸着力を発生する第1の吸着ライン21aに吸着部10を接続し、フォーカス位置へ移動する間に第2の吸着ライン21bによる強い真空吸着力に電磁弁22によって切り換える。真空吸着力発生や真空破壊に費やす時間を短縮して、スループットを向上させることができる。
請求項（抜粋）：
基板を保持する保持面を有する保持盤と、該保持盤の前記保持面に真空吸着力を発生させるための真空吸着力発生部と、該真空吸着力発生部の前記真空吸着力を所定のタイミングで少なくとも2段階に変化させるための吸着力可変機構を有する基板保持装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 P
, H01L 21/30 503 C
5F031CA02
, 5F031HA13
, 5F031HA32
, 5F031MA27
, 5F031PA30
, 5F046CC08
, 5F046CC10
, 5F046CC13
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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