特許

J-GLOBAL ID：200903034386233281

ネガ型レジスト組成物

発明者： 五十嵐 美和 ,  矢野 映 ,  渡部 慶二 ,  並木 崇久 ,  倉光 庸子
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-056256
公開番号（公開出願番号）：特開平6-266105
出願日： 1993年03月17日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：

【要約】【目的】 ネガ型レジスト組成物に関し、解像度の優れた短波長紫外線或いは電子線用レジストを提供することを目的とする。【構成】 化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマと、非化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマ例えばヒドロキシスチレンとクロロメチルスチレンとを共重合させてアルカリ可溶性をもつ共重合体を作り、該共重合体を基材樹脂とし、酸発生剤と架橋剤を加えてネガ型レジスト組成物を構成する。

請求項（抜粋）：

化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマと、非化学増幅系ネガ型レジストを構成する樹脂のモノマとを共重合させててアルカリ可溶性をもつ共重合体を作り、該共重合体を基材樹脂とし、酸発生剤と架橋剤を加えてなることを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/038 505 ,  C08F212/14 MJY ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/028 ,  H01L 21/027 ,  C09D125/18 PFB