硫化亜鉛系薄膜とこれを用いた光記録媒体

発明者： ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：青山葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-373822
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189035
出願日： 1999年12月28日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
要約：

【要約】【課題】硫化亜鉛よりも高い屈折率を有する薄膜を提供して、相変化型の光記録媒体の保護層を提供し、その薄層化とそれによる熱的安定性を確保し、従来に比して低い抵抗率を有する薄膜形成用材料を提供して、特に、相変化型の光記録媒体に使用する保護層を提供し、その薄膜生産性を高める。【解決手段】薄膜を、主成分としての硫化亜鉛と、酸化ニオブとを含有して成る硫化亜鉛系から形成し、特に、硫化亜鉛系薄膜中の酸化ニオブの含有量を、Nb2O5換算で10〜30重量%の範囲として、薄膜に高い屈折率を付与し、特に、400nm波長光での屈折率が2.5以上とする。さらに、酸化ニオブの添加により、原料焼結体を低い電気抵抗率にして、この焼結体を直流スパッターにより薄膜に形成するのを容易にする。このような薄膜は、光記憶媒体において、レーザ光の照射信号を相変化として記録する合金相の記録層を被覆して保護する保護層に利用する。

請求項（抜粋）：

硫化亜鉛を主成分とし、酸化ニオブを含有して成る硫化亜鉛系薄膜。

IPC (3件)：

G11B 7/24 534 , C01G 9/08 , C23C 14/00

FI (3件)：

G11B 7/24 534 N , C01G 9/08 , C23C 14/00 D

Fターム (18件)：

4K029AA08 , 4K029AA09 , 4K029BA43 , 4K029BA51 , 4K029BC08 , 4K029BD12 , 4K029CA05 , 4K029DC09 , 4K029DC34 , 4K029DC35 , 5D029LA14 , 5D029LA15 , 5D029LA17 , 5D029LA19 , 5D029LB01 , 5D029LB07 , 5D029LC06 , 5D029LC21

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