特許
J-GLOBAL ID：200903034403942151
オルガノポリシロキサン組成物の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-126875
公開番号（公開出願番号）：特開平11-302395
出願日： 1998年04月21日
公開日（公表日）： 1999年11月02日
要約：
【要約】【解決手段】 オルガノポリシロキサンと無機充填剤とを必須成分とするベースコンパウンドを製造する際、上記オルガノポリシロキサン及び/又は無機充填剤成分、又は得られたベースコンパウンドに対して高周波出力装置で高周波を照射する処理を行うことを特徴とするオルガノポリシロキサン組成物の製造方法。【効果】 本発明のオルガノポリシロキサン組成物の製造方法によれば、結晶水を有する無機充填剤や、水と共存させて表面処理を促進させて使用する無機充填剤を配合した場合においても、付加タイプ、熱加硫タイプの組成物では経時で戻りが少なく、窒素含有量が少ないため変色しない硬化性に優れた組成物が得られ、また、縮合タイプの組成物では、水分が十分除去できるため硬化剤量を少なくすることができる上、末端を効率よく封鎖するオイル等を製造することもでき、特に優れた縮合タイプの組成を得るのに好適である。従って、本発明方法によれば、高品質のオルガノポリシロキサン組成物を工業的に有利に製造することができる。
請求項（抜粋）：
オルガノポリシロキサンと無機充填剤とを必須成分とするベースコンパウンドを製造する際、上記オルガノポリシロキサン及び/又は無機充填剤成分、又は得られたベースコンパウンドに対して高周波出力装置で高周波を照射する処理を行うことを特徴とするオルガノポリシロキサン組成物の製造方法。
IPC (6件)：
C08J 3/28 CFH
, C08K 3/22
, C08K 3/26
, C08K 3/36
, C08K 9/00
, C08L 83/04
C08J 3/28 CFH
, C08K 3/22
, C08K 3/26
, C08K 3/36
, C08K 9/00
, C08L 83/04
