特許
J-GLOBAL ID：200903034405549333
基板の洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 強
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-238949
公開番号（公開出願番号）：特開平10-092707
出願日： 1996年09月10日
公開日（公表日）： 1998年04月10日
要約：
【要約】【課題】 基板の表面に傷が付き難く、不要部分を良好に除去でき、洗浄液の使用量を少なくできると共に、洗浄時間を短縮でき、さらには、レジスト層のエッジの部分も良好に洗浄することができる基板の洗浄装置を提供する。【解決手段】 ポンプ2により洗浄液9に高圧力をかけてガン13側に送り、ガン13におけるノズル14の吐出口から洗浄液9を、高圧で霧化した状態で、5MPa以上の高圧力、好ましくは7〜15MPaの吐出圧力で吐出する。この吐出された洗浄液9をガラス基板15に吹き当てることにより、ガラス基板15上の不要部分(現像液などの残渣)を除去する。
請求項（抜粋）：
基板上に感光性レジストを塗布し、露光した後、現像処理することにより所定パターンのレジスト層を形成する際に、前記基板上の不要部分を除去するために用いられる洗浄装置であって、洗浄液に高圧力を加える圧力源と、この圧力源により高圧力を加えられた前記洗浄液を霧化した状態で吐出するノズルとを備え、このノズルから吐出する洗浄液を前記基板に吹き当てることにより、基板上の不要部分を除去する構成としたことを特徴とする基板の洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/304 341
H01L 21/30 577
, H01L 21/304 341 N
