特許

J-GLOBAL ID：200903034405781147

ストリッパー

発明者： ロバート・エル・ブレナード ,  ロバート・エル・オーガー ,  ジョセフ・エイ・ラコウスキ
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
代理人 (2件)： 近藤 実 ,  橋本 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-204579
公開番号（公開出願番号）：特開2007-128038
出願日： 2006年07月27日
公開日（公表日）： 2007年05月24日
要約：

【課題】電子デバイスからのエッチ後残留物の除去のための組成物及び方法を提供する。【解決手段】電子デバイスのような基体からポリマー物質を除去するために有用な組成物及び方法が提供される。フッ化物源、多価アルコール及びエーテル、水、並びに、炭酸を含むポリカルボン酸と有機アミンからなるPH調節剤、を含む組成物。この組成物は、プラズマエッチ工程に続いて電子デバイスからポリマー残留物を除去するために特に好適である。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(a)0.05〜5重量%のフッ化物源;(b)40〜95重量%の、多価アルコール及びエーテルを含む溶媒混合物;(c)5〜50重量%の水;並びに(d)(1)炭酸又はその塩及び(2)ポリカルボン酸と塩基(但し、ポリカルボン酸と塩基のモル比は、1:1〜1:10である)から選択されるpH調節剤;を含む、基体からポリマー物質を除去するための組成物であって、4〜8のpHを有する組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  C09K 13/06 ,  C09K 13/08

FI (7件)：

G03F7/42 ,  H01L21/302 102 ,  H01L21/304 647A ,  H01L21/30 572B ,  C09K13/06 ,  C09K13/06 101 ,  C09K13/08

Fターム (13件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096HA23 ,  2H096LA03 ,  5E343AA22 ,  5E343EE02 ,  5E343EE06 ,  5E343GG11 ,  5F004AA09 ,  5F004AA14 ,  5F004EA10 ,  5F004FA08 ,  5F046MA02

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第5,939,336号明細書
  

審査官引用 (1件)

• はく離及び洗浄用の組成物並びにそれらの使用
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-190183   出願人：エアプロダクツアンドケミカルズインコーポレイテッド