特許

J-GLOBAL ID：200903034412497098

塗布液塗布方法及びその装置

発明者： 左成 卓也 ,  真田 雅和
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-165770
公開番号（公開出願番号）：特開平11-016810
出願日： 1997年06月23日
公開日（公表日）： 1999年01月22日
要約：

【要約】【課題】 回転制御を工夫することによって膜厚プロファイルを良好に保ちつつも、比較的厚い膜厚の塗布被膜をも形成することができる。【解決手段】 基板Wを第1の回転数R1で回転させて塗布液を回転中心付近から端縁に向けて拡げ、第1の回転数R1より低い第2の回転数R2を経て回転数を低くし、さらに低い第3の回転数R3で回転させて、表面全体に一定膜厚の塗布被膜を形成する塗布液塗布方法において、第1の回転数R1から第2の回転数R2には、基板の回転中心付近から拡がってゆくほぼ円形状の塗布液がその端縁に到達する前に切り換え、かつ、第2の回転数R2から第3の回転数R3には、基板の表面全体を塗布液が覆ってから切り換える。

請求項（抜粋）：

基板を第1の回転数で回転させて、塗布液を回転中心付近から端縁に向けて拡げる第1の過程と、前記第1の回転数より低い第2の回転数を経て前記基板の回転数を低くする第2の過程と、前記第2の回転数より低い第3の回転数で前記基板を回転させて、前記基板の表面全体に一定膜厚の塗布被膜を形成する第3の過程とをその順に実施する塗布液塗布方法において、前記第1の過程から前記第2の過程には、前記基板の回転中心付近から拡がってゆくほぼ円形状の塗布液がその端縁に到達する前に移行し、かつ、前記第2の過程から前記第3の過程には、前記基板の表面全体を塗布液が覆ってから移行するようにしたことを特徴とする塗布液塗布方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 ,  G03F 7/16 502

FI (5件)：

H01L 21/30 564 D ,  B05C 11/08 ,  B05D 1/40 A ,  G03F 7/16 502 ,  H01L 21/30 564 C