特許

J-GLOBAL ID：200903034419312042

位置合わせ方法、その位置合わせ方法を用いた露光方法、その露光方法を用いたデバイス製造方法、そのデバイス製造方法で製造されたデバイス、並びに位置合わせ装置、その位置合わせ装置を備えた露光装置

発明者： 入江 信行 ,  高根 栄二
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-027512
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173921
出願日： 1993年02月08日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【目的】 センサーの計測再現性を考慮して最適な検出条件を選別する。【構成】 基板(W)上に配列された複数の処理領域(ES)の各々を、該基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせする位置合わせ方法であって、基板上に形成された特定マーク(アライメントマークMy)を、それぞれ異なる複数の検出条件毎に複数回検出する第1工程(S102)と、前記第1工程で得られた複数の検出結果に基づいて、該検出結果のばらつき(σまたは3σ)を各検出条件毎に求める第2工程(S104,S107)と、前記第2工程で得られた各検出条件毎の前記ばらつきを比較して、前記複数の検出条件の中から、最もばらつき度合いの小さい検出条件を自動的に選択する第3工程(S110,S112)と、を有する。

請求項（抜粋）：

設計上の配列情報に基づいて基板上に配列された複数の処理領域の各々を、該基板の移動位置を規定する静止座標系内の所定の基準位置に対して位置合わせする位置合わせ方法であって、前記基板上に形成された特定マークを、それぞれ異なる複数の検出条件毎に複数回検出する第1工程と、前記第1工程で得られた複数の検出結果に基づいて、該検出結果のばらつきを各検出条件毎に求める第2工程と、前記第2工程で得られた各検出条件毎の前記ばらつきを比較して、前記複数の検出条件の中から、最もばらつき度合いの小さい検出条件を自動的に選択する第3工程と、を有することを特徴とする位置合わせ方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 9/00

FI (4件)：

H01L 21/30 520 A ,  G03F 9/00 A ,  H01L 21/30 525 W ,  H01L 21/30 525 X

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平4-032219
  
• 位置合わせ装置及びそれを用いた投影露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-164230   出願人：キヤノン株式会社