特許
J-GLOBAL ID：200903034419948842
2次元移動ステージ
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-200381
公開番号（公開出願番号）：特開平10-038782
出願日： 1996年07月30日
公開日（公表日）： 1998年02月13日
要約：
【要約】【課題】 硬度計などに使用される2次元移動ステージにおいて、部品点数を低減し、その高さ方向のサイズを小型化する。【解決手段】 X方向マイクロメータ5を第1の位置に固定した状態において、Xステージ3をベース2に対して移動させて、Xステージ3の位置決めを行う。そして、マイクロメータ5を第2の位置に移動することにより、Xステージ3もマイクロメータ5が移動した第2の位置に対応する位置に移動する。一方、Y方向マイクロメータ10を第1の位置に固定した状態において、Yステージ4をXステージ3に対して移動させて、Yステージ4の位置決めを行う。そして、マイクロメータ10を第2の位置に移動することにより、Yステージ4もマイクロメータ10が移動した第2の位置に対応する位置に移動する。
請求項（抜粋）：
基台と、該基台上に設けられた第1のリニアベアリングと、該基台上において、該第1のリニアベアリングと略平行に設けられた第2のリニアベアリングと、前記基台上において、前記第1のリニアベアリングに摺動可能に設けられた第1のステージと、該第1のステージ上において、前記第1のリニアベアリングと略直交する方向に延在するよう設けられた第3のリニアベアリングと、該第1のステージ上において、前記第3のリニアベアリングと略平行に設けられた第4のリニアベアリングと、前記第1のステージ上において、前記第3のリニアベアリングに摺動可能に設けられた第2のステージと、前記第2のリニアベアリングに摺動可能に、かつ少なくとも第1および第2の位置において固定可能に設けられ、前記第1のステージに当接して該第1のステージを前記第1のリニアベアリングに沿って移動するとともに、前記各位置における前記第1のステージの変位を測定する第1の測定手段と、前記第4のリニアベアリングに摺動可能に、かつ少なくとも第1および第2の位置において固定可能に設けられ、前記第2のステージに当接して該第2のステージを前記第3のリニアベアリングに沿って移動するとともに、前記各位置における前記第2のステージの変位を測定する第2の測定手段とを備えたことを特徴とする2次元移動ステージ。
IPC (3件)：
G01N 3/40
, G01N 35/04
, G01B 5/00
G01N 3/40 Z
, G01N 35/04 Z
, G01B 5/00 L
