特許
J-GLOBAL ID:200903034429034318

Ni-Ti系形状記憶合金線材及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 菅原 正倫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-282185
公開番号(公開出願番号):特開2001-107164
出願日: 1999年10月01日
公開日(公表日): 2001年04月17日
要約:
【要約】【課題】 原料コストが比較的安価であり、しかも0.2mm以下の細線であるにも拘わらず耐久性に優れ、さらに細線化する際の加工性にも優れたNi-Ti系形状記憶合金線材と、その製造方法とを提供する。【解決手段】 合金組成が、Tiの原子含有率が40〜50原子%であり、Niの原子含有率が42〜51原子%であり、かつZr及びHfの少なくとも一方を合計で3〜16原子%含有するものとなるように合金原料を配合・溶解する。そして、その溶湯を孔径0.2mm以下の噴射ノズル2から噴射させつつ、これを冷却ガス中にて冷却・凝固させることにより、線径0.2mm以下に形成され、かつ軸直交断面における結晶粒の最大径が1〜15μmであるNi-Ti系形状記憶合金線材Wを得る。
請求項(抜粋):
Tiの原子含有率が40〜50原子%であり、Niの原子含有率が42〜51原子%であり、かつZr及びHfの少なくとも一方を合計で3〜16原子%含有するNi-Ti系形状記憶合金からなり、線径が0.2mm以下であって、軸直交断面における結晶粒の最大径が1〜15μmであることを特徴とするNi-Ti系形状記憶合金線材。
IPC (12件):
C22C 14/00 ,  B22D 11/06 360 ,  B22D 11/06 380 ,  C22F 1/10 ,  C22C 19/03 ,  C22F 1/00 625 ,  C22F 1/00 630 ,  C22F 1/00 681 ,  C22F 1/00 682 ,  C22F 1/00 685 ,  C22F 1/00 691 ,  C22F 1/00 694
FI (12件):
C22C 14/00 Z ,  B22D 11/06 360 A ,  B22D 11/06 380 Z ,  C22F 1/10 G ,  C22C 19/03 A ,  C22F 1/00 625 ,  C22F 1/00 630 L ,  C22F 1/00 681 ,  C22F 1/00 682 ,  C22F 1/00 685 ,  C22F 1/00 691 B ,  C22F 1/00 694 A
Fターム (7件):
4E004DB05 ,  4E004DB08 ,  4E004NB06 ,  4E004NC09 ,  4E004TA06 ,  4E004TB04 ,  4E004TB07

前のページに戻る