特許

J-GLOBAL ID：200903034433592902

高純度シリカ薄膜を形成するための溶液の製造方法、及びそれを用いたコーティング方法

発明者： 雪嶋 孝一 ,  酒井 義男 ,  永田 勉
出願人/特許権者： 雪嶋 孝一
代理人 (1件)： 越川 隆夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-149294
公開番号（公開出願番号）：特開2003-336010
出願日： 2002年05月23日
公開日（公表日）： 2003年11月28日
要約：

【要約】【課題】常温にてシリカへ転化させることができ、常温塗布型の高純度シリカコーティング材として用いることができる高純度シリカ薄膜を形成するための溶液の製造方法、及びそれを用いたコーティング方法を提供する。【解決手段】有機溶剤に可溶なペルヒドロポリシラザンにキシレン、ミネラルターペン、シンナー及び高沸点芳香族系溶媒を用いてアミン系触媒を添加し、これを被コーティング体に塗布することにより、常温にてシリカへ転化させつつ、高純度シリカ薄膜を被コーティング体表面に形成することができる。これにより、被コーティング体の劣化防止及び汚れ防止を図ることができる。

請求項（抜粋）：

有機溶剤に可溶なペルヒドロポリシラザンにキシレン、ミネラルターペン、シンナー及び高沸点芳香族系溶媒を用いてアミン系触媒を添加したことを特徴とする高純度シリカ薄膜を形成するための溶液の製造方法。

IPC (3件)：

C09D183/16 ,  B05D 1/36 ,  B05D 7/24 302

FI (3件)：

C09D183/16 ,  B05D 1/36 Z ,  B05D 7/24 302 Y

Fターム (51件)：

4D075AE03 ,  4D075CA23 ,  4D075CA32 ,  4D075CA33 ,  4D075CA34 ,  4D075CA36 ,  4D075CA37 ,  4D075CA42 ,  4D075CA44 ,  4D075CA45 ,  4D075CB06 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB12 ,  4D075DB13 ,  4D075DB16 ,  4D075DB35 ,  4D075DB38 ,  4D075DB43 ,  4D075DC01 ,  4D075DC05 ,  4D075DC08 ,  4D075DC11 ,  4D075DC15 ,  4D075DC18 ,  4D075DC24 ,  4D075DC38 ,  4D075EA07 ,  4D075EB42 ,  4D075EB43 ,  4D075EC02 ,  4D075EC07 ,  4D075EC10 ,  4D075EC30 ,  4D075EC54 ,  4J038DL171 ,  4J038HA066 ,  4J038HA216 ,  4J038JA05 ,  4J038JB01 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038NA01 ,  4J038NA05 ,  4J038NA06 ,  4J038PB02 ,  4J038PB05 ,  4J038PB07 ,  4J038PC03 ,  4J038PC08