ポジ型感光性組成物

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-099274
公開番号（公開出願番号）：特開平11-295892
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して高い感度を有し、解像力、レジストプロファイルが優れるとともに、十分なドライエッチング耐性を備え、かつ基板からの剥離が生じない良好なレジストパターンを形成し得る標準現像液(2.38%TMAH水溶液)適性を備えたポジ型感光性組成物を提供すること。【解決手段】活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物及び特定の構造の脂環式単位と酸の作用により分解する基を有する単位を含有する樹脂を含有するポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(B)下記一般式(I)または一般式(II)で表される脂環式単位と酸の作用により分解する基を有する単位を含有する樹脂を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。【化1】(上記式におけるR1 、R2 は、各々独立に水素原子、水酸基又は酸の作用により分解する基を表し、mは0又は1を表わす。)

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