特許

J-GLOBAL ID：200903034434979312

基板ガイド装置ならびにこれを用いた洗浄装置

発明者： 芳賀 宣明 ,  三森 健一
出願人/特許権者： アルプス電気株式会社 ,  第一施設工業株式会社
代理人 (2件)： 志賀 正武 ,  志賀 正武 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-004936
公開番号（公開出願番号）：特開2001-196345
出願日： 2000年01月13日
公開日（公表日）： 2001年07月19日
要約：

【要約】【課題】 接触汚染を防止して基板を支持が可能で、洗浄等の処理用ノズルと基板との位置状態設定の正確性の向上を図り、洗浄等の処理効率を向上し、装置構成の簡略化と、製造コストの削減とを図る。【解決手段】 互いに吹出口202a,202bを対向させるとともに間隔を設けて配置した一対の流体吹出ノズル201a,201bと、該一対の流体吹出ノズル201a,201bのそれぞれに流体を供給する流体供給手段とを有し、この流体を前記流体吹出ノズル201a,201bの吹出口202a,202bから前記間隙に吹き出すことにより、該間隙に挿入される基板10と前記流体吹出ノズル201a,201bとの相対距離を制御する。

請求項（抜粋）：

互いに吹出口を対向させるとともに間隔を設けて配置した一対の流体吹出ノズルと、該一対の流体吹出ノズルのそれぞれに流体を供給する流体供給手段とを有し、この流体を前記流体吹出ノズルの吹出口から前記間隙に吹き出すことにより、該間隙に挿入される基板と前記流体吹出ノズルとの相対距離を制御することを特徴とする基板ガイド装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  B08B 5/02

FI (3件)：

H01L 21/304 643 B ,  B08B 3/02 C ,  B08B 5/02 Z

Fターム (21件)：

3B116AA02 ,  3B116AB14 ,  3B116AB42 ,  3B116BB24 ,  3B116BB32 ,  3B116BB72 ,  3B116BB85 ,  3B116CC03 ,  3B116CD42 ,  3B116CD43 ,  3B201AA02 ,  3B201AB14 ,  3B201AB42 ,  3B201BB24 ,  3B201BB32 ,  3B201BB72 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201CC12 ,  3B201CD42 ,  3B201CD43

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 処理液吐出装置およびその吐出ノズルと基板表面とのギャップ調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-334958   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 薄いガラス板を扱う装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-319269   出願人：カール-ツァイス-スティフツング
• 板体の除塵方法及び板体の除塵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-195273   出願人：ヒューグルエレクトロニクス株式会社, 株式会社ニュートム
• 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-338695   出願人：大見忠弘, 株式会社フロンテック, オルガノ株式会社

審査官引用 (4件)

• 洗浄やエッチング、現像、剥離等を含むウエット処理に用いる省液型の液体供給ノズル、省液型の液体供給ノズル装置及びウエット処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-338695   出願人：大見忠弘, 株式会社フロンテック, オルガノ株式会社
• 処理液吐出装置およびその吐出ノズルと基板表面とのギャップ調整方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-334958   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 薄いガラス板を扱う装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-319269   出願人：カール-ツァイス-スティフツング
• 板体の除塵方法及び板体の除塵装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-195273   出願人：ヒューグルエレクトロニクス株式会社, 株式会社ニュートム