特許
J-GLOBAL ID：200903034437180722
基板の洗浄乾燥装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
栂村 繁郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-350772
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166789
出願日： 1991年12月12日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：
【要約】 (修正有)[目的]外部環境に影響されず、パーティクル付着を阻止する。[構成]複数の洗浄ユニットを並設してローラーコンベアで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に基板を浸漬させ、超音波洗浄及びシャワー洗浄を行う洗浄手段に続いて密閉されたローラーコンベアを有する乾燥槽、プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間にゲートバルブをもうけ、乾燥槽には真空排気手段とローラーコンベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽には真空排気手段とプラズマを発生させる高周波コイルとローラーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、アンローダ槽には真空排気手段とスローリークバルブとを設けた基板の洗浄乾燥装置
請求項（抜粋）：
複数の洗浄ユニットを並設してローラーコンベアで基板を搬送し、各洗浄ユニットの浸漬槽内に基板を浸漬させ、超音波洗浄及びシャワーの洗浄を行う洗浄手段に続いて密閉されたローラーコンベアを有する乾燥槽、プラズマ槽、アンローダ槽を並設し、各槽間にゲートバルブを設け、乾燥槽には真空排気手段と、ローラーコンベアの上下に赤外線ヒータを設け、プラズマ槽には真空排気手段と、プラズマを発生させる高周波コイルとローラーコンベアの上方に紫外線ランプを設け、アンローダ槽には真空排気手段とスローリークバルブとを設けたことを特徴とする基板の洗浄乾燥装置。
IPC (5件)：
H01L 21/304 351
, B08B 3/02
, B08B 17/02
, G02F 1/13 101
, H05K 3/26
