回転式ヒータ・ブロックを備えた加熱・乾燥装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：泉克文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085548
公開番号（公開出願番号）：特開2001-274180
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：

【要約】【課題】半導体装置組立用のインライン処理に好適に使用できる小型の加熱・乾燥装置を提供する。【解決手段】多角柱状に形成されると共に、その長手方向中心軸を回転軸として回転可能に支持されたヒータ・ブロック3を設ける。移送アームにより、加熱または乾燥すべき被加工物を搬送レール17aからヒータ・ブロック3の溝の内部に収容すると共に、加熱または乾燥が終了した被加工物をヒータ・ブロック3から搬送レール17に取り出す。ヒータ・ブロック3の溝の内部に収容された被加工物を、バネ付きの蝶番11で開放可能な蓋10によって保持する。ヒータ・ブロック3に内蔵されたヒータ5により、溝の内部の被加工物を加熱・乾燥する。

請求項（抜粋）：

多角柱状に形成されると共に、その長手方向中心軸を回転軸として回転可能に支持されたヒータ・ブロックと、前記ヒータ・ブロックを前記回転軸の周りに回転せしめる駆動手段と、加熱または乾燥すべき被加工物を前記ヒータ・ブロックに載せると共に、加熱または乾燥が終了した前記被加工物を前記ヒータ・ブロックから取り出す移送手段と、前記移送手段で前記ヒータ・ブロックに載せられた複数の前記被加工物を前記ヒータ・ブロック上に保持する保持手段と、前記ヒータ・ブロック上に保持された前記被加工物を加熱する、前記ヒータ・ブロックに内蔵されたヒータとを備えたことを特徴とする加熱・乾燥装置。

IPC (2件)：

H01L 21/52 , F26B 11/04

FI (2件)：

H01L 21/52 H , F26B 11/04

Fターム (14件)：

3L113AA06 , 3L113AB05 , 3L113AC07 , 3L113AC68 , 3L113AC75 , 3L113AC76 , 3L113AC90 , 3L113BA34 , 3L113DA14 , 3L113DA17 , 5F047AA11 , 5F047FA52 , 5F047FA53 , 5F047FA54

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭57-084141
特開昭57-084141

前のページに戻る