特許

J-GLOBAL ID：200903034443667439

化学増幅型レジスト組成物及び液浸露光用化学増幅型レジスト組成物

発明者： 畑 光宏 ,  藤 裕介 ,  宮川 貴行
出願人/特許権者： 住友化学株式会社
代理人 (1件)： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-047821
公開番号（公開出願番号）：特開2009-237559
出願日： 2009年03月02日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：

【課題】機能性樹脂組成物としての基本特性に影響を及ぼすことなく、さらなる解像度の向上を実現することができる化学増幅型レジスト組成物及び液浸露光用化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位と、式(I)で示される構造単位と、多環式ラクトン構造を有する構造単位とを含有し、それ自体有機溶媒に可溶、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂、並びに式(II)A+E-(II)で示される酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

酸に不安定な基を側鎖に有する構造単位と、 式(I)

IPC (8件)：

G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  H01L 21/027 ,  C07C 381/12 ,  C07C 309/17 ,  C09K 3/00 ,  C08F 220/16

FI (9件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/38 501 ,  H01L21/30 502R ,  C07C381/12 ,  C07C309/17 ,  C09K3/00 K ,  C08F220/16

Fターム (45件)：

2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BF02 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025DA34 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA06 ,  2H096DA10 ,  2H096EA05 ,  2H096GA09 ,  4H006AA01 ,  4H006AB80 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AL08S ,  4J100BA03Q ,  4J100BA03S ,  4J100BA15P ,  4J100BB01Q ,  4J100BB03Q ,  4J100BB05Q ,  4J100BB07Q ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC08P ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09S ,  4J100BC27P ,  4J100BC53R ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38