特許

J-GLOBAL ID：200903034449103057

めっき液における金属析出促進化合物および該化合物を含むめっき液

発明者： 早川 普 ,  神田 隆
出願人/特許権者： シップレーカンパニー エル エル シー
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-377169
公開番号（公開出願番号）：特開2002-180259
出願日： 2000年12月12日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】 めっき液における金属析出促進化合物、該化合物を含むめっき液、該めっき液を用いた置換めっき方法を提供する。【解決手段】 1以上のカチオン形成性基を有する水溶性の糖質である、めっき液における金属析出促進化合物が開示され、該化合物をめっき液に添加することにより、めっき処理において金属析出速度を向上させ、これにより、従来不均一な被膜形成となりがちであった、プリント回路ボードなどの基体をめっき処理する場合に、均一な被膜形成を可能にする。

請求項（抜粋）：

1以上の窒素原子を有する水溶性の糖質である、めっき液における金属析出促進化合物。

IPC (2件)：

C23C 18/31 ,  H05K 3/24

FI (2件)：

C23C 18/31 Z ,  H05K 3/24 A

Fターム (31件)：

4K022AA42 ,  4K022BA01 ,  4K022BA02 ,  4K022BA03 ,  4K022BA06 ,  4K022BA07 ,  4K022BA08 ,  4K022BA09 ,  4K022BA10 ,  4K022BA11 ,  4K022BA14 ,  4K022BA17 ,  4K022BA18 ,  4K022BA21 ,  4K022BA25 ,  4K022BA28 ,  4K022DA03 ,  4K022DB01 ,  4K022DB21 ,  4K022DB26 ,  4K022DB28 ,  4K022DB29 ,  5E343AA02 ,  5E343AA11 ,  5E343BB16 ,  5E343BB24 ,  5E343BB25 ,  5E343BB71 ,  5E343CC78 ,  5E343DD33 ,  5E343GG06