特許

J-GLOBAL ID：200903034452455398

感光性組成物及びパターンの形成方法

発明者： 今井 玄児 ,  岩沢 直純 ,  山岡 亜夫
出願人/特許権者： 関西ペイント株式会社
代理人 (1件)： 小田島 平吉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-150785
公開番号（公開出願番号）：特開平10-293404
出願日： 1994年04月14日
公開日（公表日）： 1998年11月04日
要約：

【要約】【課題】 高解像度で、微細画像パターン形成能に優れたポジ型フォトレジスト、印刷材料等に有用な感光性組成物及びこれを用いたパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】 A′)カルボキシル基を必須成分として含有する重合体とA′′)ヒドロキシフェニル基を必須成分として含有する重合体;B)一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物;及びC)活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を必須成分として含むことを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。

請求項（抜粋）：

A′) 重合体1kgあたり0.5〜10当量のカルボキシル基を含有し、そして3000〜100000の範囲内の数平均分子量及び0°C以上のガラス転移温度を有する重合体、A′′) 重合体1kgあたり少なくとも1〜10当量のヒドロキシフェニル基を含有し、そして500〜100000の範囲内の数平均分子量及び0°C以上のガラス転移温度を有する重合体、B) 一分子中に少なくとも2個以上のビニルエーテル基を含有する化合物、及びC) 活性エネルギー線照射により酸を発生する化合物を含むことを特徴とする感光性組成物。

IPC (7件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/004 512 ,  H01L 21/027 ,  H05K 3/00 ,  H05K 3/06

FI (8件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/004 512 ,  H05K 3/00 F ,  H05K 3/06 H ,  H05K 3/06 J ,  H01L 21/30 502 R