特許
J-GLOBAL ID：200903034455380542
渦流円板及び、渦流円板を備えた燃料噴射弁
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-317210
公開番号（公開出願番号）：特開2003-120471
出願日： 2001年10月15日
公開日（公表日）： 2003年04月23日
要約：
【要約】【課題】 液体のための完全な貫流部と、入口領域65と、出口領域69とを有し、少なくとも1つの出口領域69が下側の底部層62内に設けられ、渦流通路66を有していて、該渦流通路が渦流室68内に開口しており、該渦流室が、底部層62の上流側に形成された渦流発生層61内に設けられている形式の、噴射弁のための渦流円板を改良して、特に簡単かつ安価に製造できるようなものを提供する。【解決手段】 渦流室68のすぐ下流側に続く、吐出開口69の第1の区分69aが、渦流室68よりも小さい開口幅を有し、この第1の区分69aの下流側に、この第1の区分69aの開口幅よりも大きい開口幅を有する、出口開口69の第2の区分69bが続いており、この第2の区分69bの下流側に、この第2の区分69bの開口幅よりも小さい開口幅を有する、出口開口69の第3の区分69cが続いている。
請求項（抜粋）：
特に噴射弁のための渦流円板であって、液体のための完全な貫流部と、少なくとも1つの入口領域(65)と、少なくとも1つの出口領域(69)とを有しており、これらの出口領域のうちの少なくとも1つの出口領域(69)が下側の底部層(62)内に設けられており、少なくとも1つの渦流通路(66)を有していて、該渦流通路(66)が渦流室(68)内に開口しおり、該渦流室(68)が、底部層(62)の上流側に形成された渦流発生層(61)内に設けられている形式のものにおいて、渦流室(68)のすぐ下流側に続く、吐出開口(69)の第1の区分(69a)が、渦流室(68)よりも小さい開口幅を有しており、この第1の区分(69a)の下流側に、この第1の区分(69a)の開口幅よりも大きい開口幅を有する、出口開口(69)の第2の区分(69b)が続いており、この第2の区分(69b)の下流側に、この第2の区分(69b)の開口幅よりも小さい開口幅を有する、出口開口(69)の第3の区分(69c)が続いていることを特徴とする、渦流円板。
Fターム (13件)：
3G066AA02
, 3G066AB02
, 3G066AD12
, 3G066BA03
, 3G066BA54
, 3G066BA61
, 3G066CC06U
, 3G066CC14
, 3G066CC37
, 3G066CC41
, 3G066CD14
, 3G066CD21
, 3G066CE22
