特許

J-GLOBAL ID：200903034475617719

パラジウムの精製方法

発明者： 石井 敏文
出願人/特許権者： 日鉱金属株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-293358
公開番号（公開出願番号）：特開2002-105545
出願日： 2000年09月27日
公開日（公表日）： 2002年04月10日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】酸素濃度を大幅に低減することができるパラジウムの精製方法を提供する。【解決手段】 銅電解アノードスライムからパラジウムを回収する際、パラジウム錯塩を常圧下、純度99.9%以上の不活性ガス雰囲気における不活性ガス流速0.007m/s以上で、処理温度850°C以上、保持時間2時間以上の条件で熱処理を行ない、酸素濃度を150ppm以下のパラジウムを得る。

請求項（抜粋）：

パラジウム錯塩を熱処理して金属パラジウムを得る方法において、熱処理を常圧下、不活性ガス雰囲気中かつ不活性ガス流速0.007m/s以上(標準状態)で行い、処理後のパラジウム酸素濃度を150ppm以下にすることを特徴とするパラジウムの精製方法。

IPC (3件)：

C22B 11/02 ,  C22B 1/02 ,  C22B 7/00

FI (3件)：

C22B 11/02 ,  C22B 1/02 ,  C22B 7/00 H

Fターム (3件)：

4K001AA41 ,  4K001BA24 ,  4K001DA12

引用特許：

審査官引用 (1件)

• パラジウムの精製方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-300508   出願人：日鉱金属株式会社